Purifying Anti-Pollution Masque

45,00

Purifying Anti Pollution Masque van Environ (75 ml)

Het Purifying Anti-Pollution Masque van Environ is een multi-functioneel masker met Japanse houtskool en speciale plantaardige ingrediënten dat helpt om onzuiverheden die het gevolg zijn van vervuiling te absorberen, het aanzien van de huid te normaliseren en te hydrateren, waardoor ze gerevitaliseerd en zacht aanvoelt.

Gebruiksadvies:

Breng Anti-Pollution Masque na het pre-reinigen, reinigen en tonifiëren in een dun tot matig laagje aan. Laat het 20 minuten drogen. Emulgeer daarna het masker met water terwijl je de huid met cirkelvormige bewegingen masseert om de huid zachtjes te exfoliëren en te zuiveren en spoel het masker af met lauw water. Breng daarna je gebruikelijke Environ moisturiser met vitamine A aan.

Gebruik het masker ’s avonds, 2 tot 3 keer per week.

Anti-Pollution Masque kan gebruikt worden tijdens elke fase van het Vitamin STEP-UP SYSTEMTM.

Ingrediënten:

Aqua (water), Kaolin, Glycerin, Polyglyceryl-6 Distearate,Butylene Glycol, PEG-40 Hydrogenated Castor Oil,Cetyl Alcohol,Butyrospermum Parkii (Shea) Butter, Jojoba Esters,1,10-Decanediol,10-Hydroxydecanoic Acid, Anastatica Hierochuntica (Rose of Jericho) Extract, Charcoal Powder, Hydrogenated Olive Oil, Hydrolyzed Jojoba Esters, Lactobacillus Ferment, Olea Europaea (Olive) Fruit Oil, Olea Europaea (Olive) Oil Unsaponifiables, Polyglycerin-10, Polyglyceryl-10 Myristate, Polyglyceryl-10 Stearate, Polyglyceryl-3 Beeswax, Polyurethane-62, Sebacic Acid, Citric Acid, Disodium EDTA, Ethylhexylglycerin, Caprylyl Glycol, Phenylpropanol, Propanediol, Sodium Hydroxide, Sodium Laureth Sulfate, Tetrasodium Pyrophosphate, Tocopherol, Xanthan Gum, Trideceth-6, Phenoxyethanol, Sodium Dehydroacetate.

4 op voorraad

Categorieën: , Artikelnummer: purifying-anti-pollution-masque

Beoordelingen

Er zijn nog geen beoordelingen.

Wees de eerste om “Purifying Anti-Pollution Masque” te beoordelen

Het e-mailadres wordt niet gepubliceerd. Vereiste velden zijn gemarkeerd met *

Post comment